Η βασική τεχνολογία των μηχανών σήμανσης λέιζερ υπεριώδους ακτινοβολίας έγκειται στην αρχή της "ψυχρής επεξεργασίας", η οποία χρησιμοποιεί φωτόνια υπεριώδους{0} υψηλής ενέργειας για να διαταράξει άμεσα τους μοριακούς δεσμούς στην επιφάνεια ενός υλικού. Αυτό αναγκάζει το υλικό να αποκόπτεται ή να υφίσταται φωτοχημικές αντιδράσεις με μη θερμικό τρόπο, αποτρέποντας έτσι τη θερμική βλάβη και την παραμόρφωση του υλικού.
Το συστατικό πυρήνα αποτελείται συνήθως από ένα λέιζερ UV με μήκος κύματος 355 nm. Αυτό το λέιζερ δημιουργείται συχνά μέσω τρίτης-αρμονικής γενιάς εντός της κοιλότητας του λέιζερ, που χαρακτηρίζεται από ένα εξαιρετικά μικρό εστιακό σημείο (έως 15 μικρά) και μια ελάχιστη επηρεαζόμενη ζώνη με θερμότητα-(λιγότερο από 0,1 mm).
Επί του παρόντος, μια νέα γενιά τεχνολογίας λέιζερ UV επιπέδου picosecond-είναι υπό ανάπτυξη. Αυτό αναμένεται να επεκτείνει περαιτέρω τις εφαρμογές του στην επεξεργασία εξαιρετικά σκληρών υλικών, όπως κεραμικά και ζαφείρι.
Εντός του κλάδου, ορισμένοι κατασκευαστές έχουν δημιουργήσει τεχνικές συνεργασίες με διεθνείς επιχειρήσεις λέιζερ και κατέχουν σχετικά διπλώματα ευρεσιτεχνίας.
